半導體製造是無塵室應用的典範之一。這個領域包括了晶片晶圓設備的製造、零件的買賣和維修，以及其他高精度製造的相關產業。在這個高度精密的製造過程中，無塵室的應用遠不僅僅是提供一個潔淨的環境，更是確保半導體設備的高品質製造的關鍵。

半導體製造中的微影製程是一項極為精密的操作。這項製程常常需要在無塵室中進行，以確保製程不受到微小粒子的影響。在這個製程中，將有二氧化矽絕緣層的矽晶圓塗上光阻，並在上方套上光罩，這光罩上特定位置有著精密的電路圖。

微影製程中，光阻的塗佈是一個關鍵的步驟。這時，操作者需要將光罩準確地套在矽晶圓上，確保光罩上的電路圖對準所需的位置。接著，透過紫外光照射，光罩上的特定位置光阻會變得容易溶解。這種技術要求極高的準確性，以確保電路圖的準確性和清晰度。

經過光罩照射後，接下來是蝕刻的過程。這是一個高度控制的步驟，只有光罩照射過的地方的光阻才會被溶解掉，進而將特定位置的二氧化矽蝕刻掉。蝕刻完畢後，剩餘的光阻需要被清除，以確保形成的電路圖的完整性和可靠性。

這一連串的操作都需要在無塵室的高潔淨度環境中進行，以避免微小粒子對製程造成的潛在危害。半導體業對於微影製程的嚴格要求，彰顯了無塵室在高精度製造中的不可或缺性。這種精密的操作不僅挑戰著技術的極限，更體現了現代科技製造的高度複雜性和專業性。