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Chuck清潔產品(晶圓)

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    Chuck Cleaning Wafer (CCW)
    自動化Down lot進入Chamber內部清潔chuck,取代傳統無塵布耗時
    清潔不乾淨的方式,可用於高溫製程,半導體4大製程皆可使用.
    目前實績 AMAT、ASML、Nikon、Hitachi、Mattson

    美國ITS(International Test Solutions)之代理產品,無需停機,可直接Swing out stage就能清潔Chuck,解決機台上發生Defocus及Hotspot問題,無須傳統開chamber方式耗時又費工,可提供4吋~12吋CCW。

    優勢
    ●減省User開chamber清潔chuck時間,降低人力成本並提升機台稼動率。
    ●量產時run貨順暢度提升。
    ●提供客戶在不同產業端的應用開發。
    ●多樣化黏度/厚度規格供選擇,應用於不同製程/機台條件而達到最高效益。

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